MEMS技術

光刻是將製作在光刻掩模上的圖形轉移（Pattern Transfer）到襯底的表面上。無論加工何種微器件，微加工工藝都可以分解成薄膜澱積，光刻和刻蝕這三個工藝步驟的一個或者多個迴圈。

光刻在MEMS製造過程中位於首要地位，其圖形分辨率、套刻精度、光刻膠側壁形貌、光刻膠缺陷和光刻膠抗刻蝕能力等效能都直接影響到後續工藝的成敗。