pvd靶材有哪些
PVD 靶材应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、 光学元器件、 节能玻璃、 LED、工具改性、高档装饰用品等。
薄膜材料生长于基板材料(如屏显玻璃、光学玻璃等)之上,一般由金属、非金属、合金或化合物等材料经过镀膜后形成。目前,薄膜材料制备技术主要包括物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。
PVD 技术是制备薄膜材料的主要技术之一,指在真空条件下采用物理方法,将某种物质表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基板材料表面沉积具有某种特殊功能的薄膜材料的技术。在PVD 技术下,用于制备薄膜材料的物质,统称为 PVD 镀膜材料。经过多年发展,PVD 技术已成为目前主流镀膜方法,主要包括溅射镀膜和真空蒸发镀膜。
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