cvd镀钛原理

原理:镀钛是在高温，真空钛金炉内，钛、锆金属。借用惰性气体的辉光放电使金属或合金蒸气离子化，离子经电场加速而沉积带负电荷的不锈钢板上，从而形成色泽丰富艳丽的金属膜。这也叫PVD镀膜，是物理蒸汽沉积。不锈钢镀膜，也叫不锈钢钛/锆镀膜，就是在一个真空容器内，在不锈钢表面形成钛/锆化合物的离子膜层，膜层能在室外环境下长年不褪色。

CVD(ChemicalVaporDeposition)镀钛原理是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物的单质气体供给基片，利用加热、等离子体、紫外光乃至激光等能源，借助气相作用或在基片表面的化学反应(热分解或化学合成)生成要求的薄膜。

真空镀钛的CVD法中Z常用的就是等离子体化学气相沉积(PCVD)。利用低温等离子体作能量源，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电(或另加发热体)使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜。真空镀膜镀的薄膜涂层均匀。