光刻机是中国人发明的吗
不是,其实我国早在上个世纪60年代就开始研究光刻机,并且在1965年就研制出65型接触式光刻机。70年代开始,中国科学院就开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。1980年中国清华大学研制的第四代分布式投影光刻机获得成功,将光刻精度缩小至3微米。别看3微米相比如今7nm的制程工艺相差甚远,但在那个年代已经接近国际主流水平
不是
1822年法 国人 Nicephore niepce(尼埃普斯) 发明 了 光刻机 ,起初是Nicephore niepce发现了一种能够刻在油纸上的印痕,当其出现在了玻璃片上后,经过一段时间的暴晒,透光的部分就会变得很硬,但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉。
     不是。
      工业能力是一个国家国防实力和经济实力的基础,而光刻机是现代工业体系的关键部分,不过目前荷兰光刻机是最有名的,出口到全球各国,口碑很好。那光刻机是谁发明的主要用途有哪些呢
1959年,世界上第一架晶体管计算机诞生,提出光刻工艺,仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片,1960年代,仙童提出CMOSIC制造工艺,第一台IC计算机IBM360,并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线,美国GCA公司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。
光刻机是集成电路制造中最精密复杂、难度最高、价格最昂贵的设备,用于在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。集成电路在制作过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序,其中以光刻工序最为关键,因为它是整个集成电路产业制造工艺先进程度的重要指标。
目前,全球最顶尖的光刻机生产商是荷兰ASML、Nikon、Canon和上海微电子(SMEE),其中ASML实力最强,因此全球多数国家都愿意去这家公司进口光刻机。
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