奈米印花工藝流程

第一步是模板的加工。一般使用電子束刻蝕等手段，在矽或其他襯底上加工出所需要的結構作為模板。由於電子的衍射極限遠小於光子，因此可以達到遠高於光刻的分辨率。

第二步是圖樣的轉移。在待加工的材料表面塗上光刻膠，然後將模板壓在其表面，採用加壓的方式使圖案轉移到光刻膠上。注意光刻膠不能被全部去除，防止模板與材料直接接觸，損壞模板。

第三步是襯底的加工。用紫外光使光刻膠固化，移開模板後，用刻蝕液將上一步未完全去除的光刻膠刻蝕掉，露出待加工材料表面，然後使用化學刻蝕的方法進行加工，完成後去除全部光刻膠，最終得到高精度加工的材料。