C4F6是什麼氣體
全氟丁二烯(C4F6,六氟丁二烯,六氟-1,3-丁二烯)作為一種温室效應GWP極低,綠色環保的高效幹蝕刻氣體,用於半導體產品的等離子介質刻蝕,具有更快刻蝕速率、更高選擇性和更高精確性,更適合於高深寬比的蝕刻工藝。
全氟丁二烯(C4F6)是一種無色無味且不溶於水的氣體,沸點為5.9℃。 全氟丁二烯是一種含有六個氟原子和兩個碳碳雙鍵的共軛烯烴,作為一種優異的蝕刻氣體,由於其獨特的F/C比,與傳統使用的全氟飽和氟碳類蝕刻氣體相比,全氟丁二烯具有更高的蝕刻選擇性、精確性和縱橫比,可以蝕刻小於100nm 甚至更窄的電子線路。
此外,C4F6比C4F8具有更高的對光阻和氮化硅選擇比,在使用時可以提高蝕刻的穩定性,提高蝕刻速率和均勻度,從而提高產品優良率。
因成雙鍵的碳再成3元環的角張力能太大,故 C4F6 只有全氟丁炔或全氟丁二烯兩種物質的分子式符合題意,可視為丁炔或丁二烯的氫全為氟所取代的化合物,其中全氟丁炔可有2個同分異構體,全氟丁二烯則只有1種。C5F8 為全氟戊炔或全氟戊二稀,HCI為氯化氫,HF為氟化氫,PCI為氯化磷,CDA,IA,GN2,DCS等均為專業產品名(含縮寫),建議另行查找。
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