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![刻蚀ito用什么气体]( "刻蚀ito用什么气体")
刻蚀ito用什么气体
刻蚀ito用的气体是甲烷。ITO是通过真空磁控溅射镀膜工艺生产的一种材料。透明导电膜屏蔽玻璃的导电膜层材料主要为ITO（铟锡氧化物半导体）膜、金属镀膜等，其特点是在150KHz~1GHz范围内有适宜的屏蔽效能，透光性较普通网栅材...
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![铜刻蚀反应原理]( "铜刻蚀反应原理")
铜刻蚀反应原理
金属蚀刻就是先在基板上用丝印或网印的方式把基板上需要保护的部位遮住，然后用化学或电化学方式侵蚀掉不需要的部位，最后退去保护膜，得到制品的一种加工方式。是生产标牌、电路板、金属工艺品、金属版画等过程中的关键步...
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![刻蚀工艺工程师几年入门]( "刻蚀工艺工程师几年入门")
刻蚀工艺工程师几年入门
至少2-3年才有资本说自己干过。一个有经验的工艺工程师大约需要5-10年的时间。刻蚀工艺工程师岗位职责：1、负责刻蚀新工艺的开发和量产导入2、负责刻蚀异常的处理，不良分析和解决，保障蒸发刻蚀工程生产的平稳运行3、分析...
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![半导体刻蚀基础知识]( "半导体刻蚀基础知识")
半导体刻蚀基础知识
半导体刻蚀的基础知识包含了将材质整⾯均匀移除及图案选择性部份去除的技术。⽽其中⼤略可分为湿式刻蚀(WetEtching)与⼲式刻蚀(DryEtching)两种技术。早期半导体制程中所采⽤的刻蚀⽅式为湿式刻蚀，即利⽤特定的化学溶...
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![铁电极表面刻蚀活化原理]( "铁电极表面刻蚀活化原理")
铁电极表面刻蚀活化原理
电蚀刻是利用金属在以自来水或盐水为蚀刻主体的液体中发生阳极溶解的原理，（电解的作用下）将金属进行蚀刻，接通蚀刻电源，从而达到蚀刻的目的。蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化...
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![半导体刻蚀工艺工程师有前途吗]( "半导体刻蚀工艺工程师有前途吗")
半导体刻蚀工艺工程师有前途吗
不同工种的工艺工程师差不少呢。我觉得光刻相关的最值钱，毕竟目前人工湿法刻蚀还很难被机器完全取代。出师呢，至少2-3年才有资本说自己干过。一个有经验的工艺工程师大约需要5-10年的时间吧。毕竟很多异常状况少见，需要...
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![氯化铁溶液刻蚀铜板化学方程式]( "氯化铁溶液刻蚀铜板化学方程式")
氯化铁溶液刻蚀铜板化学方程式
氯化铁和铜化学反应方程式：Cu+2FeCl3=2FeCl2+CuCl2。离子反应方程式：2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+。氯化铁中的Fe元素为+3价是强氧化性的，所以会和铜发生反应变成+2价亚铁。氯化铁，化学式FeCl3。是一种共价化合物。为黑棕色结晶，也...
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![刻蚀制程温度有多高]( "刻蚀制程温度有多高")
刻蚀制程温度有多高
刻蚀温度一般介于35～45℃之间刻蚀，英文为Etch，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻[1]相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀...
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![太阳能电池刻蚀与制绒的区别]( "太阳能电池刻蚀与制绒的区别")
太阳能电池刻蚀与制绒的区别
刻蚀与制绒虽然都是太阳能电池，但是刻蚀与制绒区别很大材质不一样刻蚀是金属材质，制绒是塑料材质功率不一样刻蚀的功率大，制绒的功率小颜色不一样刻蚀是黑色，制绒是彩色制绒是为了在硅片表面形成微结构，减少镜面反射的光损...
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![刻蚀工艺的原理和目的]( "刻蚀工艺的原理和目的")
刻蚀工艺的原理和目的
刻蚀最简单最常用分类是：干法刻蚀和湿法刻蚀。显而易见，它们的区别就在于湿法使用溶剂或溶液来进行刻蚀。湿法刻蚀是一个纯粹的化学反应过程，是指利用溶液与预刻蚀材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达...
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![刻蚀师有前途吗]( "刻蚀师有前途吗")
刻蚀师有前途吗
刻蚀师有前途。湿法刻蚀是技术含量比较高的一种雕刻工艺，并且在许多领域都有非常广泛的运用，而作为湿法刻蚀工程师，不仅仅是工作前景非常良好而且待遇也非常高，无论是作为工作还是事业都有极好的前途。湿法刻蚀由于其技术...
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![蚀刻怎么解决侧腐蚀]( "蚀刻怎么解决侧腐蚀")
蚀刻怎么解决侧腐蚀
1．制定或控制好适于自身产品的蚀刻液的温度。2．选择高效率的蚀刻液。最好能使金属蚀刻液连续使用、再生．永远处于最佳的活跃状态。3．严格控制铜板蚀刻时间。方法是先做首件，选择出最佳的蚀刻时间，一旦达到理想深度即刻取出...
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![蚀刻和光刻合起来叫什么]( "蚀刻和光刻合起来叫什么")
蚀刻和光刻合起来叫什么
叫半导体工艺。蚀刻和光刻合起来叫半导体工艺，当然只是半导体工艺中的一部分。半导体工艺大概有如下：蚀刻工艺、光刻工艺、掺杂工艺、薄膜制备工艺、籽晶熔接工艺、放肩工艺、收晶、等径生长、晶圆制造、光学显影等工艺...
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![晶圆需要几次光刻和蚀刻]( "晶圆需要几次光刻和蚀刻")
晶圆需要几次光刻和蚀刻
小到几次，大到上百次。在一块晶圆上制造出芯片需要经过上千道工序，从设计到生产需要三个多月的时间。晶圆从光刻、蚀刻到形成最终的芯片流程非常复杂，有些小芯片可能仅需要几次光刻和蚀刻，而有些结构复杂的会反反复复进行...
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![真空蚀刻线原理]( "真空蚀刻线原理")
真空蚀刻线原理
真空蚀刻线科学原理分析如下：蚀刻过程是PCB生产过程中基本步骤之一，简单的讲就是基底铜被抗蚀层覆盖，没有被抗蚀层保护的铜与蚀刻剂发生反应，从而被咬蚀掉，最终形成设计线路图形和焊盘的过程。蚀刻（etching）又称为光化学蚀刻...
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![什么是蚀刻工艺]( "什么是蚀刻工艺")
什么是蚀刻工艺
其基本原理是利用化学感光材料的光敏特性，在基体金属基片两面均匀涂敷感光材料采用光刻方法，将胶膜板上栅网产显形状精确地复制到金属基片两面的感光层掩膜上通过显影去除未感光部分的掩膜，将裸露的金属部分在后续的加工...
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![光蚀刻和化学蚀刻有什么区别]( "光蚀刻和化学蚀刻有什么区别")
光蚀刻和化学蚀刻有什么区别
光蚀刻，简称光刻，主要是应用于制作印片或电器的线路板等。利用照相手段制作抗蚀膜像，用来保护表面，在金属、塑料等上面，借助腐蚀剂进行腐蚀的方法。应用于制作印片或电器的线路板等。化学蚀刻指通过制版曝光、显影后，将要蚀...
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![石头蚀刻方法]( "石头蚀刻方法")
石头蚀刻方法
可以用稀盐酸，大理石的主要成分是碳酸钙，碳酸钙与稀盐酸反应生成氯化钙与水，可以达到腐蚀的目的但是不能用硫酸。硫酸与碳酸钙几乎不反应。也不建议用硝酸。总之稀盐酸是一个不错的选择...
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![pcb酸性蚀刻和碱性蚀刻区别]( "pcb酸性蚀刻和碱性蚀刻区别")
pcb酸性蚀刻和碱性蚀刻区别
pcb酸性蚀刻和碱性蚀刻区别在于成分和效能不同。酸性蚀刻液主要成分氯化铜、盐酸、氯化钠和氯化铵。碱性蚀刻液主要成分为氯化铜﹑氨水﹑氯化铵，补助成分为氯化钴、氯化钠、氯化铵或其它含硫化合物以改善特性。相对于碱性...
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![zippo蚀刻和雕刻哪个手感好]( "zippo蚀刻和雕刻哪个手感好")
zippo蚀刻和雕刻哪个手感好
雕刻的手感好。1：Zippo蚀刻：就是用某种液体把机身表面腐蚀掉，留下要的图案就行。 2：Zippo精雕刻，是采用激光以瞬间高温的形式去掉不需要的地方。3：二者相对比:蚀刻成本低，精度低，手动工作太多，刻深不不好控制（时间长短），一般...
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![干法蚀刻原理]( "干法蚀刻原理")
干法蚀刻原理
原理是利用等离子气体进行材料上的物理和化学双重蚀刻。干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术。等离子体中的这些气体化学活性比常态下时要强很多，可以更快地与材料进行反应。还可以利用电场对等离子体进行引导和加...
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![zippo雕刻和蚀刻哪个好]( "zippo雕刻和蚀刻哪个好")
zippo雕刻和蚀刻哪个好
zippo雕刻和蚀刻相比，蚀刻更好。雕刻的话，是要看机器雕还是手雕了。通常机器雕刻有分，刀刻和激光镭射，通常不容易掉，会磨损要看打火机材质，如果镀铬刀刻上去的，正常使用7~8年都很难磨损。有些冰机就相对来说不是很耐磨. ...
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![芯片光刻及蚀刻有毒吗]( "芯片光刻及蚀刻有毒吗")
芯片光刻及蚀刻有毒吗
芯片光刻是无毒的。但蚀刻有毒，使用化学药剂。高能光都被严格限制在光路里，除非设备出现问题，否则没有机会对人体造成伤害。激光做刻蚀除了对人眼有损伤外，其他无损害，是高效环保产品。因此激光加工过程中需要佩戴防护眼镜...
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![铜板蚀刻是什么]( "铜板蚀刻是什么")
铜板蚀刻是什么
铜腐蚀是一种选择性的去除过程，用于在铜板上产生图像。大多数蚀刻过程需要一块覆盖有非反应性材料的金属板，然后选择性地将其去除。铜板暴露在腐蚀性物质中，腐蚀性物质会去除少量的铜，而不会影响保护区域。过去，这是用蜡来...
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![激光蚀刻的原理]( "激光蚀刻的原理")
激光蚀刻的原理
激光蚀刻是采用高能脉冲激光束在零件表面刻蚀出宽度为10~505μm、深度为5~1001μm的微细小槽，以改善材料表面润滑特性的技术。激光刻蚀的基本原理是将高光束质量的小功率激光束（一般为紫外激光、光纤激光）聚焦成极小光斑...
