氮和氟反應

氟和氮他們形成的化合物，應該是三氟化氮，它們的化學式是NF3

三氟化氮（nitrogen trifluoride）化學式NF3，在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的電漿蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對矽和鎢化合物，高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化矽和矽）。

反應。

氟氣，元素氟的氣體單質，化學式F2，淡黃色，氟氣化學性質十分活潑，具有很強的氧化性，除全氟化合物外，可以與幾乎所有有機物和無機物反應。工業上氟氣可作為火箭燃料中的氧化劑，鹵化氟的原料，冷凍劑，電漿蝕刻等。氟氣是一種極具腐蝕性的雙原子分子構成的氣體，劇毒。氟是電負度最強的元素，也是很強的氧化劑。在常溫下，它幾乎能和所有的元素化合，併產生大量的熱能，在所有的元素中，要算氟最活潑了。除具有最高價態的金屬氟化物和少數純的全氟有機化合物外，幾乎所有有機物和無機物均可以與氟氣反應。

氟氣與氮氣經紫外線照射十二小時，再經過放電處理可得到一種叫八氟化二氮的液態化合物．已知該化合物具有極強的氧化性，本身極不穩定，遇水可造成大爆炸． 經紫外線照射十二小時!!!!