鐳射慣組原理

原理：

鐳射介質可以是氣體、液體、固體和半導體，要求存在亞穩態能級為實現粒子數反轉之必要條件現有工作介質近千種，可以產生的鐳射波長從真空紫外到遠紅外，非常廣泛

激勵源使介質出現粒子數反轉。可以是電激勵、光激勵、熱激勵、化學激勵等等。電激勵用氣體放電的方法去激勵介質原子各種激勵方式又被形象地稱為泵浦或抽運。不斷泵浦才能維持上能級粒子數多於下能級，不斷獲得鐳射輸出。

有了前兩者只能保證實現粒子數反轉，但這樣產生的受激輻射強度很弱，無法實際應用，所以可以用光學諧振腔進行放大。所謂光學諧振腔實際是在鐳射器兩端裝上兩塊反射率很高的鏡子，一塊全反射，一塊部分反射，以使鐳射可透過這塊鏡子射出，被反射回到工作介質的光繼續誘發新的受激發射，光被放大。因此光在諧振腔內來回振盪造成連鎖反應，雪崩似的獲得放大，產生強烈的鐳射，從部分反射鏡一端輸出。