什麼是光伏ald裝置

是一種特殊的真空薄膜沉積方法，具有較高的技術壁壘。

通過ALD 鍍膜裝置可以將物質以單原子層的形式一層一層沉積在基底表面，每鍍膜一次/層為一個原子層，根據原子特性，鍍膜 10 次/層約為 1nm。

讀起來可能有點拗口，用圖例可能會看得更清晰一點。