pvd靶材有哪些

PVD 靶材應用領域包括平板顯示、半導體、太陽能電池、光磁記錄媒體、 光學元器件、 節能玻璃、 LED、工具改性、高檔裝飾用品等。

薄膜材料生長於基板材料（如屏顯玻璃、光學玻璃等）之上，一般由金屬、非金屬、合金或化合物等材料經過鍍膜後形成。目前，薄膜材料製備技術主要包括物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。

PVD 技術是製備薄膜材料的主要技術之一，指在真空條件下采用物理方法，將某種物質表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，並通過低壓氣體（或電漿體）過程，在基板材料表面沉積具有某種特殊功能的薄膜材料的技術。在PVD 技術下，用於製備薄膜材料的物質，統稱為 PVD 鍍膜材料。經過多年發展，PVD 技術已成為目前主流鍍膜方法，主要包括濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜。